傳美國擬禁止中國獲取先進晶片設計軟件
（華盛頓）外電引述消息報道，拜登政府打算禁止出口半導體開發必需的特定類型設計軟件。報道稱，白宮將要求商務部發布新規則，事實上禁止出口開發先進全環繞柵極（Gate-All-Around）晶片所需設計軟件。
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管理和預算辦公室正在審查這一限制措施，勢將在未來幾周內實施。目標是禁止向開發人工智能應用的中國公司出售此類設計工具。
美國在今年7月向荷蘭施壓，要求其禁止ASML Holding NV向中國出售生產全球大量晶片所需的主流技術。
據瞭解，美國官員正遊說荷蘭政府禁止阿斯麥出售一些舊款的深紫外線光刻機（DUV）。
這些機器比先進技術落後了一代，但仍然是製造汽車、手機、電腦乃至機器人所需的某些非先進晶片的最常用設備。
知情人士稱，美國的首要目標是禁售最先進的DUV技術，即浸沒式光刻機。（綜合報道）
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