荷蘭宣佈出口管制規定 限制另2款ASML光刻機
（海牙6日綜合電）荷蘭政府週五以安全風險為由，宣佈對半導體生產機器的出口實施更廣泛的限制，意味著荷蘭光刻機巨頭公司艾司摩爾（ASML）若要向歐盟以外的買家出口深紫外光刻設備，都必須申請政府授權。
綜合美聯社與法新社報導，這套以國家安全名義實施的新規定訂於7日生效。
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在此之前，荷蘭政府已限制艾司摩爾對中國出口先進設備，最新規定將影響另外兩種工具，包括TWINSCAN NXT：1970i以及1980i深紫外光微影（DUV）系統，用於生產電腦晶片。
荷蘭外貿與發展部長克萊弗在聲明中指出，技術進步導致與出口這種特定製造設備的相關安全風險增加，特別是在當前的地緣政治背景下。
艾司摩爾發言人莫爾斯在一份聲明中表示，由於這是技術性調整，這項宣佈不至於對該公司2024年財務展望，或公司的長期目標造成任何影響。
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