德国之声 | 申请专利：中国7纳米芯片光刻技术取得突破

（德国之声中文网）包括“芯智讯”在内的网络媒体报道称，国家知识产权局于9月10日披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，内容涉及极紫外辐射（EUV）发生装置及光刻设备，申请者为上海微电子装备（集团）股份有限公司。

EUV光刻技术是一种先进的芯片（晶片）制造技术，可以在半导体晶圆上绘制极其精细的电路，从而生产出更小、更强大的芯片。这项技术使用极紫外光（EUV）作为光源，比传统光刻技术能实现更高的精度。拥有EUV光刻技术专利意味着掌握了制造7纳米及以下芯片的关键能力。

据相关报道，上海微电子此次披露的专利主要涉及EUV 光源和光刻设备，其中重点的极紫外辐射发生器（光源）主要包括腔体、靶材发生器、激光发生器、收集镜、电极板、气控部件等关键部件。

这一消息也引起了德国科技时政类媒体Telepolis的关注。该媒体近日发表报道称，中国在芯片领域正在迎头赶上。

报道作者认为，中国的技术进步几乎势不可挡。中国光刻设备市场99%的份额由荷兰阿斯麦（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有阿斯麦生产7纳米以下芯片的设备。然而，阿斯麦在为中国客户提供服务方面面临压力，中国是其仅次于台湾的第二大市场。

根据2023年年报，阿斯麦仅能满足中国订单的50%。据《南华早报》报道，自9月6日起，阿斯麦在中国提供零部件、软件更新和系统维护需要获得荷兰许可证。此前，需在美国获得出口许可。

制裁——与国家安全无关？

美国希望限制中国在计算机芯片领域的发展，声称国家安全受到威胁，因为中国也能够将计算机芯片用于人工智能和军事目的。Telepolis的报道指出：阿斯麦首席执行官克里斯托弗·福克特（Christophe Fouquet）曾经表示，华盛顿所关心的仅在有限范围内涉及国家安全。这些限制“主要出于经济原因”，并且“越来越难以辩称这与国家安全有关”。