德國之聲 | 申請專利：中國7納米芯片光刻技術取得突破

（德國之聲中文網）包括“芯智訊”在內的網絡媒體報道稱，國家知識產權局於9月10日披露了一項名為“極紫外輻射發生裝置及光刻設備”的發明專利，內容涉及極紫外輻射（EUV）發生裝置及光刻設備，申請者為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。

EUV光刻技術是一種先進的芯片（晶片）製造技術，可以在半導體晶圓上繪製極其精細的電路，從而生產出更小、更強大的芯片。這項技術使用極紫外光（EUV）作為光源，比傳統光刻技術能實現更高的精度。擁有EUV光刻技術專利意味著掌握了製造7納米及以下芯片的關鍵能力。

據相關報道，上海微電子此次披露的專利主要涉及EUV 光源和光刻設備，其中重點的極紫外輻射發生器（光源）主要包括腔體、靶材發生器、激光發生器、收集鏡、電極板、氣控部件等關鍵部件。

這一消息也引起了德國科技時政類媒體Telepolis的關注。該媒體近日發表報道稱，中國在芯片領域正在迎頭趕上。

報道作者認為，中國的技術進步幾乎勢不可擋。中國光刻設備市場99%的份額由荷蘭阿斯麥（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有阿斯麥生產7納米以下芯片的設備。然而，阿斯麥在為中國客戶提供服務方面面臨壓力，中國是其僅次於臺灣的第二大市場。

根據2023年年報，阿斯麥僅能滿足中國訂單的50%。據《南華早報》報道，自9月6日起，阿斯麥在中國提供零部件、軟件更新和系統維護需要獲得荷蘭許可證。此前，需在美國獲得出口許可。

制裁——與國家安全無關？

美國希望限制中國在計算機芯片領域的發展，聲稱國家安全受到威脅，因為中國也能夠將計算機芯片用於人工智能和軍事目的。Telepolis的報道指出：阿斯麥首席執行官克里斯托弗·福克特（Christophe Fouquet）曾經表示，華盛頓所關心的僅在有限範圍內涉及國家安全。這些限制“主要出於經濟原因”，並且“越來越難以辯稱這與國家安全有關”。